日本半導體曝光設備用光源領域的大型廠商Gigaphoton稱其EUV光源掃描儀實現(xiàn)了連續(xù)運行和穩(wěn)定發(fā)射：激光驅(qū)動等離子光源原型實現(xiàn)了輸出達108W，平均能量穩(wěn)定性為0.5%的結果。
Gigaphoton副總裁兼首席技術官Hakaru Mizoguchi表示：“我們成功研發(fā)出持續(xù)運作24小時、輸出達108W的EUV光源掃描儀，說明了我們正在接近完成低成本、高輸出穩(wěn)定運行的EUV光源的研發(fā)；而這也正是半導體廠商所需要的。”
這一成果建立在一些關鍵技術基礎上：例如能生成直徑為20微米或更小錫滴的液滴生成器、固態(tài)預脈沖及主脈沖CO2激光器以及采用磁場與能量控制技術的碎片減緩技術等。
位于日本筑波的超紫外光刻基礎設施研發(fā)中心（EIDEC）也在使用Gigaphoton公司的EUV光源。
Gigaphoton公司計劃在2015年底研發(fā)出250W級別高輸出實驗裝置，這也是內(nèi)存儲設備量產(chǎn)所需的技術。
Mizoguchi表示：“我可以肯定的是當我們將該技術推向市場的時候，也就是下一代曝光技術出現(xiàn)的時候；同時我也相信將極大地改善半導體的性能，并作為支持信息技術的核心技術為行業(yè)的發(fā)展帶來劃時代的貢獻。”
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